納米壓印光刻系統(tǒng)

簡要描述：納米壓印支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。

產(chǎn)品型號：EVG610
廠商性質(zhì)：代理商
產(chǎn)品資料：
更新時間：2024-11-26
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該設(shè)備支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。

EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間僅為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機(jī)制。EV Group專有的卡盤設(shè)計可提供均勻的接觸力，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤設(shè)計既支持軟印章也支持硬印章。

納米壓印機(jī)技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑	（基板尺寸）
標(biāo)準(zhǔn)光刻	碎片蕞大150毫米
柔軟的UV-NIL	蕞大150毫米的碎片
解析度	≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程	柔軟的UV-NIL
曝光源	汞光源或紫外線LED光源
自動分離功能	不支持
工作印章制作	外部